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高溫高壓反應釜

描述:光化學高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源,環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產(chǎn)。

更新時間:2024-05-22
廠商性質:生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù):3218
詳情介紹

巖征儀器高溫高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源,環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產(chǎn)。

高溫高壓反應釜技術特點:

1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度,攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上,國內*。

2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性,國內*。

3、更專業(yè)的光化學釜體生產(chǎn)工藝:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓光源插入口等,在保證您的生產(chǎn)安全前提下更方便您的操作。

4、采用浸入式光源設計,物料與光源充分接觸,光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳,讓物料能均勻吸收光子能量。

5、嵌入式一體加熱模塊結構,加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。

6、除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外,還提供不銹鋼內襯teflon,鈦材,鎳材,哈氏合金等非標材質釜體的定做。

配置表:

型號 YZ-GHX-HP系列
光源類型 低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
光源冷卻形式 強制水冷,采用強制導流夾套式光源冷阱
容積 5-500L
釜體材質 不銹鋼304,316L,TA2,蒙乃爾合金,哈氏合金
設計參數(shù) 設計壓力1mpa,設計溫度:250℃
工作參數(shù) 工作壓力0.5mpa,工作溫度:220℃
攪拌設計 采用磁力耦合機械式攪拌,零泄漏,攪拌轉速:0-750轉/分
釜體開口 釜蓋開有進氣口,出氣口,測溫口,光源插入口,特殊要求非標設計
加熱方式 電加熱,可選導熱油,蒸汽,及紅外加熱
控制系統(tǒng) 一體式控制機柜,上部控制光源,下部分控制反應釜溫度,攪拌
光源冷卻設備 大功率激光冷水機,給光源及冷凝回流提供降溫保證

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